设计加:顶端设计
深圳坑梓科技文化中心

坪山坑梓街道,光祖公园西侧,两座文化建筑隔街相望。北侧容纳科技馆与书城,南侧为文化馆,二者之间是公园的西入口。用地东临规整的工业区,西接密集的城中村,北侧散落着深圳最大的客家围屋群——两种截然不同的城市肌理在这里相遇。

 

建筑以退台的方式向街道展开,二层、三层的平台层层收进,高低错落的拱顶覆盖其上,形成适应岭南气候的骑楼空间。这里既是科技馆的室外展场,也是文化馆的群众舞台,市民在檐下穿行、停留,室内外活动在此连通互动。拱廊选用现代胶合木构建,温暖的色泽在阳光下流淌,与西侧村落的建筑尺度自然衔接。木结构轻盈的质感与规整的城市界面形成对话,成为两馆统一的视觉标识。

 

街道不再是冰冷的边界,而是承载市民生活的公共客厅。工业区的秩序、村落的烟火、公园的绿意,在这片拱廊下交织成一幅流动的城市画卷。


面积:72244.73
设计:深圳汤桦建筑设计事务所有限公司
摄影:张超

深圳坑梓科技文化中心

地址:深圳市坪山区坑梓街道秀新社区梓平路35号

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